光刻機（Mask Aligner)又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。那么網(wǎng)友們知道光刻機有什么分類嗎？下面一起來了解一下吧。

光刻機

1、光刻機一般根據(jù)操作的簡便性分為三種，手動、半自動、全自動。

2、手動：指的是對準的調節(jié)方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準，對準精度可想而知不高了。

3、半自動：指的是對準可以通過電動軸根據(jù)CCD的進行定位調諧。

4、自動：指的是從基板的上載下載，曝光時長和循環(huán)都是通過程序控制，自動光刻機主要是滿足工廠對于處理量的需要。

以上就是對于光刻機有什么分類的相關內容。